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Oxford PlasmaPro NGP1000 PECVD

制造商：Oxford
原始设备制造商零件号：Oxford PlasmaPro NGP1000 PECVD
描述：可处理 450 毫米晶圆，带载入锁定腔室

编号：4523
状况：翻新


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Oxford Plasmalab 80 Plus RIE 系统

制造商： Oxford
原始设备制造商零件号：Plasmalab 80 Plus RIE 系统
描述：
可处理 8 英寸晶圆的单腔室 RIE 系统，是研发实验室或初创公司的理想之选！

编号：5109
状况：翻新


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Oxford Plasmalab 100 ICP 系统
制造商 ： Oxford
原始设备制造商零件号：Plasmalab 100 ICP
描述：200mm 晶圆台，带载入锁定功能的单腔室，用于金属蚀刻工艺的氯气化学系统
ID 号：4602


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Oxford Plasmalab 100 ICP-RIE 180
制造商: Oxford
原始设备制造商零件号: Plasmalab 100 ICP
描述:
用于深反应离子刻蚀 (DRIE) 的低温工作台

编号: 4948
状况: 翻新


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Oxford Plasmalab 100 PECVD
制造商: Oxford
原始设备制造商零件号: Plasmalab 100 PECVD
描述: 可处理 8 英寸晶圆，400°C 基板台，带载入锁定腔室
编号: 4600
状况: 翻新


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Oxford PlasmaPro NGP1000 ICP 380

制造商: Oxford
原始设备制造商零件号: Oxford PlasmaPro NGP1000 ICP 380
描述:
可处理 450 毫米晶圆，带载入锁定腔室

编号: 4521

状况: 翻新


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Oxford Plasmalab 100 RIE 系统
制造商：Oxford
原始设备制造商零件号
编号： 4222
状况：翻新


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