Oxford Plasmalab 100 PECVD
- 型号:Plasmalab 100 PECVD- 工艺:SiO2 和 SiN 沉积- 最大晶圆尺寸:8 英寸/200 毫米- 单片晶圆处理,最大可达 8 英寸晶圆- 负载锁定腔室- 600W 射频发生器- 基板电极:205 毫米- 优化用于 PECVD 的淋浴头式气体入口- 400°C 基板台- 系统计算机- 系统冷却器- Alcatel 2033 真空泵(负载锁定泵)- Alcatel 2033 真空泵和 RSV301B 鼓风机(腔室泵)- Oxford PC2000 软件- Windows XP 操作系统- Plasmalab 100 PECVD 操作手册- 2008 年制造!- 序列号:94-814892- CE 认证- 气体柜配置,包含以下 7 种气体:
状况:
保证状态极佳。